ENDOBERFLÄCHEN

Chemisch Nickel

ENIG

Moderne Anlagensteuerung und automatische Dosiereinrichtungen sind Voraussetzungen für eine konstante Qualität der Abscheidung. Für eine Vielzahl von Formatgrössen und -dicken stehen uns verschiedene Körbe zur Verfügung. Zerstörungsfreie Korrosionskontrolle ist bei uns gelebte Qualitätskontrolle.

Format max. 700 x 605 mm
min.100 x 200 mm
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Plattendicke 0.012 – 15 mm
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Aspect Ratio 1:15 (Bohrungen müssen komplett frei entwickelt und/oder komplett verschlossen sein)
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Kapazität 1000 m² / Tag (ca. 2000 – 3000 Panel)
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Phosphorgehalt Ni
8 – 10 %
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Härte Ni ca. 500 HV
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empf. Au Schichtdicke 0.05 – 0.1 μm

ENIG TRG

Vollautomatische Korbanlage Chemisch Nickel Gold (ENIG) ist bekannt für seine Vorteile:

Beständigkeit und Langlebigkeit, hervorragende elektrische Leitfähigkeit, Kompatibilität mit einer Vielzahl von Materialien, einschliesslich bleifreiem Löten und hervorragende Oberflächenebenheit.

Leider gibt es auch Nachteile, die berücksichtigt werden müssen:

Der Abscheidemechanismus basiert auf einer Redoxreaktion, bei der Gold aus einer Goldsalzlösung abgeschieden wird, während gleichzeitig Nickel von der Oberfläche gelöst wird, um die für die Reaktion notwendigen Elektronen bereitzustellen.

Die Herausforderung bei der ENIG-Beschichtung besteht darin, die Nickelkorrosion zu minimieren, um die Integrität der Nickelschicht zu erhalten und gleichzeitig eine ausreichende Goldabscheidung von 0,05 – 0,1 µm zu gewährleisten.

ENIG TRG by Hofstetter löst dieses Problem. Durch einen teilreduktiven Goldelektrolyten wird die Nickelauflösung minimiert und die Qualität der Goldschicht deutlich verbessert. Während der Abscheidung wird das Nickel nicht vollständig oxidiert, d.h. es wird praktisch kein Nickel aus der Oberfläche herausgelöst.

Das Schichtsystem zeichnet sich durch folgende Eigenschaften aus:

  • Korrosionsarme Abscheidung und hervorragende Lötbarkeit
  • Möglichkeit einer dickeren Goldabscheidung, die das Au-Draht-Bonden ermöglicht
  • Höhere Zuverlässigkeit und Qualität

 

 

Goldschicht TRG Feingold 99.9 Gew.-%
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Empfohlene Schichtdicke
0.05 – 0.1 µm Löten
(Au-Drahtbondbarkeit bei < 0.2 µm; für Al-Draht nicht geeignet)
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Nickelschicht (mid phos)
8 – 10% P, ca. 500 HV im Zustand wie abgeschieden
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Anlagentechnik:
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Vollautomatische Korbanlage 500 / Tag
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Panelgröße max. 700 x 605 mm
min. 100 x 200 mm
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Plattendicke
0,012 – 15 mm
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Bohrungen
AR 1:15 (komplett geöffnet oder verschlossen)
Bild Standard ENIG mit Korrosion
Bild ENIG TRG by Hofstetter ohne Korrosion
Chemisch Nickel

ENEPIG

Mit dem reduktiv abgeschiedenen Palladium als Zwischenschicht werden beim Golddrahtbonden hervorragende Bondergebnisse erreicht. Diese Schicht eignet sich auch sehr gut für Lötapplikationen und Aluminiumdrahtbonden. Mit dem von uns eingesetzten Teilreduktiven Goldprozess, gehören Nickel-Korrosionsthemen der Vergangenheit an. Somit entspricht, die ENEPIG by Hofstetter PCB Oberfläche, den höchsten Qualitätsansprüchen.

Format max. 700 x 605 mm
min. 100 x 200 mm
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Plattendicke 0.012 – 16 mm
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Aspect Ratio Bohrung
1:15 (Bohrungen müssen komplett frei entwickelt und/oder komplett verschlossen sein)
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Kapazität 500 m² / Tag
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Ni Schichtdicke* 3 – 7 μm
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Pd Schichtdicke 0,08 – 0,3 µm
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Au Schichtdicke 0,03 – 0,08 µm
Chemisch Palladium

EPIG

Chemisch Palladium Gold ist eine nickelfreie Endoberfläche, die vielfältig eingesetzt werden kann. Die Schicht eignet sich für jede Art von Löt- und Bondanwendungen. Palladium dient als Diffusionsbarriere und die Goldschichtdicke kann dank des teilreduktiven Charakters bis zu 0.3 µm variabel angepasst werden.

Anwendung
Reflowlöten und Bonden (Alu- und Golddraht) Fine Line-, Hochfrequenz- und Medizin-Technik

Schichteigenschaften
Planare Oberfläche, bondbar mit Alu- und Golddraht sowie alternativen Bonddrähten, Lagerzeit ≥ 12 Monate

Schichtdicken
0.1 – 0.2 µm Pd / 0.1 – 0.2 µm Auv

Format max. 700 x 610 mm
min. auf Anfrage (ca. 100 x 100 mm)
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Plattendicke 0,012 – 10 mm
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Aspect ratio PTH
1:16 (Bohrungen müssen komplett frei entwickelt und/oder komplett verschlossen sein)
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Aspect ratio BV
1:1 (nach Verkupferung)
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Kapazität
200 m² / Tag

DIG

Die Miniaturisierung der Leiterplatte sowie immer anspruchsvollere Hochfrequenzanwendungen benötigen neue Wege in der Endoberfläche. Mit dem DIG Prozess, einer semireduktiven Goldabscheidung direkt auf Kupfer, können wir nun eine weitere Alternative zum EPIG Prozess anbieten, wenn es um eine multifunktionale nickelfreie Endoberfläche geht.
Die Oberfläche hat hervorragende Biegeeigenschaften und ist im SAP Bereich, in Bezug auf die Fine-Line Technik, unerreicht. Sie verfügt über eine sehr gute Lötbarkeit und hat auch hervorragende Au-Drahtbondeigenschaften. Die Oberfläche hat trotz fehlender Diffusionsbarriere schon viele Untersuchungen bestanden und wird bereits im Medical und Luftfahrtbereich erfolgreich eingesetzt.

Format max. 700 x 605 mm
min. 100 x 200 mm
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Plattendicke 0.012 – 16.0 mm
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Aspect Ratio 1:16 (Bohrungen müssen komplett frei entwickelt und/oder komplett verschlossen sein)
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Aspect Ratio BV 1:1 (nach Verkupferung)
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Kapazität 200 m² / Tag
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Au Schichtdicke* 0.25 µm (0.2-0.3)

* geringere Schichtdicken sind bei Lötanwendungen möglich, muss vom Bestücker geprüft werden

Chemisch Zinn

Das Chemisch-Zinn-Verfahren für bleifreies Mehrfachlöten und Einpresstechnologien. In der Elektronik-Industrie ist chemisch Zinn als zuverlässige Oberfläche sowohl für Leiterplatten als auch für IC-Substrate anerkannt.

 

Format max. 610 x 2000 mm
min. 100 x 60 mm
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Plattendicke 0.012 – 5 mm
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Aspect Ratio
1:16 (Bohrungen müssen komplett frei entwickelt und/oder komplett verschlossen sein)
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Micro Vias
1:1
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Schichtdicke 0.6 – 1.2 μm
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Kapazität 1500 m² / Tag
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Reel to Teel
auf Anfrage
Chemisch Zinn

Chemisch Silber

Diese bleifreie Oberfläche zeigt auch nach Alterung ein sehr gutes Lötverhalten. Bei der Alterung findet kein Wachstum von intermetallischen Phasen statt. Durch die kurze Prozesszeit ergibt sich eine gute Verträglichkeit mit den verschiedensten Lötstopplacken

Format max. 610 x 1500 mm
min. 100 x 200 mm
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Plattendicke 0.05 – 6.0 mm
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Aspect Ratio
1:12 (höher nach Anfrage; Bohrungen müssen komplett frei entwickelt und/oder komplett verschlossen sein)
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Micro Vias 1:1
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Schichtdicke 0.15 – 0.45 μm
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Kapazität 1500 m² / Tag
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Reel to Reel max. Bandbreite 650 mm
Chemisch Silber
OSP

OSP

Glicoat-SMDF2(LX) Beschichtungen haben eine exzellente Hitzebeständigkeit und sind kompatibel mit „Non-Clean Soldering Fluxern“ und Lötpasten, so dass es optimal für den Einsatz bei Leiterplatten mit SMD-Technik geeignet ist sowie als Alternative zu HAL und anderen Endoberflächen.

Format max. 610 x 2000 mm
min. 100 x 60 mm
blaue Linie
Plattendicke 0.012 – 5 mm
blaue Linie
Aspect Ratio
1:16 (Bohrungen müssen komplett frei entwickelt und/oder komplett verschlossen sein)
blaue Linie
Micro Vias
1:1
blaue Linie
Schichtdicke 0.15 – 0.3 μm
blaue Linie
Kapazität 500 m² / Tag
blaue Linie
Reel to Teel
auf Anfrage

 

Galvanisch Nickel / Gold

Mit der galvanisch Nickel/Gold-Anlage können wir Hartgold- und Bondgold-Beschichtungen anbieten. Frei programmierbare Abläufe ermöglichen den Aufbau unterschiedlicher Schichtkombinationen. Zur Bearbeitung der verschieden dicken Materialien steht uns eine flexible Gestelltechnik zur Verfügung.

Format max. 610 x 900 mm
min. 100 x 100 mm
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Plattendicke 0.050 – 20 mm
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MicroVias 1:1
Schichteigenschaften: Galvanisch Nickel / Gold
Nickel Härte 400 – 450 HV
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Hartgold Legierung Kobalt
Reinheit 99,8%
Härte 140 – 170 HV
Dichte 17 g/cm³
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Softgold Reinheit 99.99%
Härte 80 – 110 HV
Dichte 19.0 g/cm³

 

Galvanisch Nickel
Reel to Reel

Reel to Reel

Auf allen horizontalen Anlagen sind wir in der Lage, Rollen zu bearbeiten.

Bandbreite max. 650 mm
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Länge bis ca. 300 m (abhängig von der Materialdicke)
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Material
alle gängigen Flex-Materialien
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Prozesse OSP
Chemisch Zinn
Chemisch Silber